Область применения > Лазерная микрообработка > Структурирование индиевых тиноксидных покрытий
Лазерное структурирование индиевых тиноксидных покрытий (ИТО)
Материал
Структурированное лазером ИТО-покрытие, расстояние между электродами мин. 25 мкм.
(Материал: T-MOX-60 на PET-пленке. Изготовитель: фирма Bekaert, Бельгия)
Индиевые тиноксидные покрытия нашли широкое применения в качестве электродного материала в дисплей-технике, для сенсорных экранов, электролюминесцентных диодов, светодиодов в органических корпусах и т.д. Эти покрытия отличаются хорошей электропроводностью и оптически прозрачны. В используемой технологии применяется техника ионно-лучевого распыления. Характеристики покрытия (электрические и оптические) зависят от точного контроля содержания кислорода в процессе напыления. В дальнейшем параметры ИТО-покрытий варьируются в зависимости от соотношения индия и олова в оксиде. Если, например, составляющая олова понижается, то повышается электрическая проводимость.
Этот материал можно наносить на самые разные субстраты, как то: полиэтилентерефталат, целлюлоза-триацетат, полиэтиленнафтенат, стекло и другие.
Лазерное структурирование
Вышеназванные области применения ИТО-покрытий предполагают такое структурирование, которое может быть реализовано разнообразными способами, такими, например, как распыление через маску, литография, печать и т.д. Простым и эффективным способом проявило себя структурирование с помощью лазера. Здесь фирма LPKF Laser & Electronics AG разработала способ на основе проекции масок, демонстрирующий прекрасные результаты. Способ может быть предложен в двух вариантах: как периодический процесс и как метод непрерывной подачи ленты. Снятие слоя с помощью лазера происходит именно потому эффективно, что воздействие осуществляется в режиме так называемого «одного выстрела», а именно ИТО-покрытие удаляется с помощью одного лазерного импульса. Для абляции требуется плотность энергии примерно 200 mJ/cm².